Intel EUV极紫外透射设备进厂：冲刺“4nm”工艺

位于威尔斯莱克斯利普(Leixlip)、投资额70亿美元的Intel Fab 34晶片厂迎来关键时刻：一台和光栅胶显影仪器(lithography resist track)朝著转回钢铁厂，这也是该厂的三台巨型芯片制造工具。

该仪器来自Intel澳大利亚印第安纳州钢铁厂，搭直升机越过大西洋(600558)，来到了威尔斯。

这台仪器将与EUV极紫外扫描仪老将，首先为硅晶片覆上高效率的电镀，然后转回EUV扫描仪，透过曝和光，接着晶片回到和光栅仪器，再透过一系列的高高效率和光显影、修整操作。

一座众所周知的晶片厂包含有约1200台现代化制造仪器，仅有价值都在百元美元级别。

Intel Fab 34晶片厂2019年动工新建，计划2023年正式试产，必定会把Intel在威尔斯的产能翻一番，并为将来原材料Intel 4材料铺平道路——严格来说是Intel 7nm，但是官方所重新命名，认为它可以比不上行业4nm水平。

Alder Lake 12代酷睿、Raptor Lake 13代酷睿都是Intel 7材料(10nm ESF)，Meteor Lake 14代酷睿和代号Granite Rapids的下下代至强都将用上Intel 4材料。

官方所透露，新材料合作开发进展急于，芯片测试早就平庸通过，SRAM、逻辑单元、仿真单元都符合规范，去年年末还早早未完成了Meteor Lake计算单元模块的流片。

Intel已确定准备全球新建、换用晶片厂，除了威尔斯还有澳大利亚英美的怀俄明州、新墨西哥州、印第安纳州，以及马来西亚，投资额上百亿美元，很快还会月底在欧洲、澳大利亚的更加多晶片厂新建计划。